Beneq C2R™憑藉過人的速度和精準度贏得Kinko青睞，顯示產業應用AR波導大量製造XR眼鏡的趨勢
台灣，台中--(美國商業資訊)--首屈一指的亞洲原始設備製造商Kinko Optical Co., LTD.（中文名：今國光學工業股份有限公司，以下簡稱「Kinko」）宣布選用Beneq的C2R™等離子體增強空間原子層沉積系統。此舉提高Kinko實力，將能夠為其合作夥伴大規模生產繞射光波導的高折射率、低損耗間隙填充光學塗層。
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由於XR眼鏡等沉浸式擴增實境 (AR) 類消費性電子商品需求大增，擴展實境 (XR) 產業發展強勁。全球一流科技公司和原始設備製造商近年紛紛投入大量資金並鼓勵相關創新。AR波導是XR眼鏡的技術核心，在將數位影像無縫疊加到真實世界的過程中起著舉足輕重的作用。先進表面浮雕光柵 (SRG+) 和奈米壓印微影 (NIL) 技術能夠完成消費性應用對性能、生產和成本的要求，是目前表現最佳的領先平台。
然而，傳統鍍膜方法難以配合這些技術創造的複雜三度奈米結構，往往無法達到必要的表現。因此，能夠提升效率、亮度和耐久性的先進光學鍍膜成了一項重要替代方案，同時還可以擴大高性能產品的產量。Beneq的C2R™能夠符合這些要求、締造毫不妥協產品表現，協助製造商滿足下一代AR設備的嚴格標準。
「Kinko從事精密光學的經驗在45年以上，向來領先同業採用先進技術幫助全球技術合作夥伴提供高性能光學元件。」Kinko Optical Co., Ltd.技術長吳國華 (Angus Wu) 說，「我們很早就意識到原子層沉積 (ALD) 的潛力。ALD可以提高鍍膜品質、保形性高，有能力製造先進光學不可或缺的高折射率、低損耗材料。我們現在可以運用Beneq的C2R™提高表現，無須因技術限制做出妥協；結合它無與倫比的沉積速度和低溫加工處理做到名符其實的大量生產，同時仍保有複雜結構的精準度。這麼做可以幫助我們加速AR波導的商業化，打造流暢的沉浸式消費者體驗，提高下世代XR眼鏡的品質。」
「我們現在可以運用Beneq的C2R™提升表現，無須因技術限制做出妥協。這麼做可以幫助我們加速AR波導的商業化，並提高下世代XR眼鏡的品質。」—Kinko Optical技術長吳國華博士
C2R™的創新旋轉式空間原子層沉積設計可在空間中分離前驅物，沉積速率高達2000 nm/h，較傳統ALD快100倍，同時又保有出色的均勻性和精準度。它支援Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂和多層堆疊等多種高折射率材料，可調折射率最高約可達2.61（TiO₂在448 nm波長處），光學損耗低至約3 dB/cm。
其他重要優勢包括：可進行與聚合物基材相容的低溫加工（低至100°C）、複雜光柵的共形間隙填充，以及可調壓力控制（1000 MPa至-200 MPa）的零壓力鍍膜。利用原位寬頻監測確保即時優化，能夠在不影響品質的前提下製造較厚的多層結構。這些優勢符合光學創新領域追求節能、永續製造與合規的產業趨勢。
此次合作還將AR生態系統應用於XR眼鏡以外的更大範圍，包括車載抬頭顯示器和企業培訓工具，藉此加速商業化並提高市場普及率。
關於Kinko
Kinko（中文名：今國光學工業股份有限公司）於1980年6月成立於台中市梧棲區。該公司是一家光學元件與光學鏡片單元專業製造商，內設四大生產部門：玻璃鏡片研磨、塑膠鏡片射出、模造玻璃壓製以及精密模具加工。Kinko生產的光學鏡片品類繁多，其品牌贏得全球認可，產品行銷全世界。Kinko產品應用於數位單眼相機 (DSLR)、行動電話、物聯網 (IoT) 設備、自動化系統、遊戲、監視設備、VR/AR/MR和熱成像相機，並將繼續致力開發高品質的加值光學鏡片。
關於Beneq
Beneq於1984年推出第一款商用原子層沉積 (ALD) 設備，開工業用ALD技術之先河。今天，Beneq憑藉著大量而豐富的產品組合，不斷提升ALD技術的應用和口碑。這些產品組合包括：製造特別半導體裝置用的Transform®、Transform® 300和Prodigy™；研發用的TFS 200和TFS 500；卷對卷 (R2R) 加工用的創新空間ALD平台如C2R™和Genesis。Beneq的系統支援從實驗室到工廠的製程創新，將ALD技術整合到先進製造中。Beneq總部位於芬蘭埃斯波，業務遍及全球，傾力協助客戶將ALD解決方案擴大應用於半導體、光學和功能性鍍膜等領域的未來。
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媒體聯絡人
Lie Luo
Beneq Oy行銷主任
lie.luo@beneq.com
Beneq C2R™－全球速度最快的商用原子層沉積（ALD）系統，沉積速度高達每小時2000奈米。
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